Siliziumanlage für chinesische Produktion.

Industrieanlage zur nasschemischen Oberflächenbehandlung von Metallteilen oder Halbleitern

Halb­lei­ter sind Bau­ele­men­te, die meis­tens aus Sili­zi­um bestehen. Mit­te Okto­ber 2020 konn­ten wir die bei DECKER pro­du­zier­te Rei­ni­gungs,- Ätz- und Trock­nungs­an­la­ge für Sili­zi­um in Con­tai­nern ver­pa­cken und zu unse­rem Kun­den nach Chi­na ver­schif­fen. Drei Mona­te ist sie auf dem See­weg, dann wird sie dort von DECKER auf­ge­stellt und in Betrieb genom­men.

Ihr Zweck: Sili­zi­um­ober­flä­chen vor der Her­stel­lung elek­tro­ni­scher Spei­cher­chips und Pro­zes­so­ren von Par­ti­keln zu rei­ni­gen, Metall­ato­me abzu­ät­zen, che­misch zu polie­ren und schließ­lich zu trock­nen. Das Rei­ni­gungs­er­geb­nis wird bei weni­ger als 5 g Metall pro 10.000 t Sili­zi­um lie­gen.

Mehr Infor­ma­tio­nen zu unse­ren Sili­zi­um-Anla­gen fin­den Sie hier.